glenresearch氨基改性劑 C6 dA說明書
更新時間：2021-06-23 點(diǎn)擊量：1283
glenresearch氨基改性劑 C6 dA說明書
5'-二甲氧基三苯甲ji-N6-苯甲?；?N8-[6-(三氟乙酰氨基)-己-1-基]-8-氨基-2'-脫氧腺苷-3'-[(2-氰乙基)-(N,N-二異丙基)]-亞磷酰胺
產(chǎn)品規(guī)格
公式：
C 55 H 65 F 3 N 9 O 8 P
CAS號：
1301170-09-1
描述
序列修飾符設(shè)計(jì)用于自動合成。羧基-dT 在脫保護(hù)過程中水解，可以通過標(biāo)準(zhǔn)肽偶聯(lián)或通過中間體 N-羥基琥珀酰亞胺 (NHS) 酯直接偶聯(lián)到含有伯氨基的分子上。在寡核苷酸合成過程中，可以分別添加氨基修飾劑 dA、氨基修飾劑 dC、N2-氨基修飾劑 dG 和兩種氨基修飾劑 dT 產(chǎn)品以代替 dA、dC、dG 和 dT 殘基。相應(yīng)的氨基修飾劑支持物可以代替它們各自的脫氧核苷支持物。去保護(hù)后，C6 類似物上的伯胺通過總共有 7 -10 個原子的間隔臂與寡核苷酸分開，并且可以被標(biāo)記或連接到酶上。
細(xì)節(jié)
用法
- 偶聯(lián)：氨基改性劑 C6 dA 以與正常亞磷酰胺相同的方式反應(yīng)。為防止副反應(yīng)，請使用乙酰保護(hù)的 dC 進(jìn)行合成。有關(guān)更多詳細(xì)信息，請參閱脫保護(hù)。
- 去保護(hù)：不需要對合成器制造商推薦的標(biāo)準(zhǔn)方法進(jìn)行更改。TFA 保護(hù)基團(tuán)在標(biāo)準(zhǔn)氫氧化銨脫保護(hù)過程中被去除。氨脫保護(hù)過程中的輕微副反應(yīng)會導(dǎo)致 2-5% 的胺不可逆地封端。如果多次添加修飾符，這可能很重要。為了防止反應(yīng)，使用乙酰保護(hù)的 dC 合成，并在 30% 氨/40% 甲胺 1:1 (AMA) 中在 65°C 下進(jìn)行 15 分鐘的脫保護(hù)。
| 規(guī)格 |
|---|
| 沖淡 | 無水乙腈 |
| 貯存 | 冷藏，最高 2-8°C，干燥 |
| 穩(wěn)定 | 2-3天 |
稀釋/偶聯(lián)數(shù)據(jù)
下表顯示了包裝尺寸數(shù)據(jù)，以及基于正常啟動程序的溶液稀釋和近似耦合。
ABI 392/394
| 目錄 ＃ | 包裝尺寸 | 克/包 | 0.1M 刻度 (毫升) | 添加的大約數(shù)量 |
|---|
| | LV40 | LV200 | 40納米 | 0.2μm | 1μm | 10μm |
|---|
| 10-1089-02 | 0.25 克 | .25 克 | 2.34 | 64.67 | 38.8 | 24.25 | 17.64 | 12.93 | 3.23 |
| 10-1089-90 | 100 微摩爾 | .107克 | 1 | 20 | 12 | 7.5 | 5.45 | 4 | 1 |
加快
| 目錄 ＃ | 包裝尺寸 | 克/包 | 稀釋（毫升） | 添加的大約數(shù)量 |
|---|
| | 摩爾濃度 | 50納米 | 0.2μm | 1μm | 15μm |
|---|
| 10-1089-02 | 0.25 克 | .25 克 | 3.49 | 0.07 | 63.4 | 39.63 | 28.82 | 3.96 |
| 10-1089-90 | 100 微摩爾 | .107克 | 1.5 | 0.07 | 23.6 | 14.75 | 10.73 | 1.48 |
